第二十章 过程 (第2/3页)
小组成员明天就会向你报道，那么你还有其他的事吗？”弗兰克以为这样就结束了，所以礼貌的问了一句。
“是的，先生我还有一点请求，你也知道的对于公司的一些糟糕的令人想起来不是那么愉快的工作作风，所以我想为了摆脱这种官僚体质的制约和限制，我和我的小组成员需要一个安静的没人打扰和掣肘的地方去开始我们的开发。”说完洛沃用一种期盼的目光看着弗兰克。
“你的想法是对的，这一条我也答应你，你觉的公司的那个研究中心适合你的要求？”
“佛罗里达州的博卡拉顿工业区的ibm研究中心如何？”
就这样象棋行动小组的工作地点从亚特兰大转移到了佛罗里达，项目悄悄的进行着。
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完全的连接好后，博士启动了电源，又在涂光刻胶机旁的电路控制板上把电机的转速调到了2千转每分钟，然后重复这一试验过程每次往上增加50转，博士把每次转速不同产生的覆光刻胶晶圆都做了转速标记。等完成涂光刻胶的步骤后又全都放进自动温控烘箱进行直板90摄氏度的软烘干，直到博士确认光刻胶的溶剂全完蒸发掉，并把不同转速产生的晶圆需要的烘干时间和温度做了细致的记录。“这才是真正的做研究的态度啊”张亿诚有些感慨，见多了前世中的时候国内专家教授所谓的研究其实就是根据国外的一些研究数据进行的一些臆想，把别人的数据进行一些删减修改后就变成自己的研究成果发表出去，这就是学术造假。
“下面我们要进行曝光了，布鲁斯你要仔细的看，这个时候的曝光就是将我们制作的掩模覆盖在涂有光刻胶的晶圆上，你了解照相机的工作原理吗？光刻掩模相当于照相的底片，一定波长的光线通过这个底片，使光刻胶获得与掩模图形同样的感光图形。当然这个时候的我们可以使用的光源可以是可见光、紫外线、xshè线和电子束。而光量，时间则取决于我们的光刻胶的型号，形成的图层的厚度和我们需要的成像深度；这里我们取用紫外线。”博士耐心的像张亿诚作着说明。
“曝光我们分3种方法，接触式曝光和接近式曝光和投
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