第234章 打通全套芯片产业链

    第234章 打通全套芯片产业链 (第1/3页)

    光刻机这赛道，秦淼还真知道一些！

    此时，听到徐教授的问话，他首先反问了起来：“我们的激光器，用的是什么技术？”

    光刻机的光源就是最重要的一环，最早的接触式光刻机，用的是汞灯，光源很简单，但是光源很容易衍射，也就是无法光刻太细的电路，否则就会模糊，到了后来又用了准分子激光器产生的i线，提升了生产工艺。

    但是，这些都不是最完美的，所以，随着工艺的提升，激光器也在不断变化，先后有了氟化氪，也就是KrF光源，再后来是氟化氩，也就是ArF。

    后世东方在极紫外光刻机，也就是EUV光刻机上遭到制裁无法拿到货之后，采用多次重复曝光的套刻方式，成功地用ArF光源的光刻机，实现了5纳米的手机芯片的生产。

    所以，己方的下一代光刻机，就不用走一步步过渡路线了，直接一步到位，要是在八十年代就搞出来哪怕100纳米的工艺，不得让西方绝望得跳楼？

    “目前我们用的是氦氖激光器作为光源，这属于第一代气体激光器，我们清华大学光学系研究得比较透，接下来，计划使用氟化氪，在光刻机领域里，被很多人认为这工艺是最可能的下一个节点……”

    “如果造氟化氩激光器的话，难度会大吗？”

    “这……”徐教授还真没准备，他思考片刻：“你稍等，我去问问。”

    说完，徐教授拿起了电话：“喂，光学系吗？我是精密仪器系的老徐，我找你们了解个情况……”

    这就是大学搞研发的好处，不管想要搞什么，都会在本校找到相关研发人员！

    放下电话，徐教授满脸兴奋：“这激光器没问题，光源是193纳米的，可以直接光刻0.2微米的芯片，如果多次套刻，几十纳米的芯片都能造出来……”

    现在，国际上主流的芯片制程，还是5微米的，清华大学的光刻机能达到1.25微米，已经很逆天了，如果研发出来新款光刻机，直接过渡到0.2微米……这就是进入了纳米时代了啊！

    

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