第476章 提前几十年开始布局 (第2/3页)
表物镜数值孔径这个东西也就是关键的暴光系统。
这也是最难的东西，我们现在造的都是落后别人十年的参数产品。
反正，光刻机制程工艺水平的发展是一直遵循你说这个公式的。
现在米国的最新型光刻机已经可以生产800NM制程的芯片，我们却还在1200nm徘徊，还差得远啰！”
说到最后，周宏反而一脸失落，也没了开始的兴致。
“哦，真复杂！”李秀成做出一脸我很懵的表情，然后话锋一转道：“但我大致抓到了两个重点，光源、物镜折射率！
想要提升芯片的生产效率和良率，是必须要同时发展光刻机的内部构造和工作模式。
那么我们可以从整体因素考虑，为什么不换一种光源，然后再换一种折射介质？”
“嗯？”周宏回过神来，有些奇怪的说道：“现在光线就G线和I线两种，波长在三百多到四百左右，确实比较大，而且国际上的公同认知是在193nm缩短到157nm制程时会出现瓶颈。
但折射介质是什么说法？”
见周宏来了兴趣，李秀成嘴角微勾然后迅速恢复原状。
这也就是现在的干式微影光刻机和浸没式光刻机的最大区别了！
他故意做出一脸不确定的说道：“光线我觉得可以多做试验，把什么XYZ射线啊，紫外线，极光都试试，总能找到最合适的。
至于折射率嘛，现在的光刻机光波是在空气中传播，然后照射暴光。
但我们读书时不是有个知识点，是光进入不同的介质波长会有所改变嘛？
那么我们能不能把物镜折射后的光源再次进行一次介质折射。
比如水，比如其他的液体！”
一口气说完最核心的东西，李秀成捧起茶杯看向周宏。
此刻，周宏呆坐当场。
但一双微眯着的眼睛和紧皱的眉头却显示出他的脑子里正在进行剧烈的思索。
李秀成没有催促，甚至没有说一句话，就捧着茶杯静静的等待着。
直到胡英梅和老太太走了出来，两人见客厅如此安静，再看到周宏像
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